Высокочастотный источник плазмы индукционного разряда для непосредственной и удаленной плазменной обработки
Высокочастотный источник плазмы индукционного разряда для непосредственной и удаленной плазменной обработки
PLASMA CALM
Высокочастотные источники индукционного разряда для непосредственной и удаленной плазменной обработки
Описание
Источник предназначен для использования в процессах плазменной и плазмохимической обработки в оптическом и полупроводниковом производстве.
Обеспечивает генерацию низкотемпературной газоразрядной плазмы низкого давления в диапазоне 0,05–100 Па, высокой плотности с концентрацией электронов 10E10–10E12 см-3 и степенью ионизации до 3%.
Представляет собой источник индукционного разряда с низкоомной плоской многозаходной спиральной антенной системой.
Основные достоинства
- Низкая энергий электронов и ионов плазмы (Te < 5 эВ; Ti < 0,15 эВ);
- Высокая степень ионизации в некоторых режимах превышающая 3 %;
- Встроенное автоматическое согласующее устройство.